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低溫冷卻循環(huán)器泵

低溫恒溫槽制冷循環(huán)器低溫制冷循環(huán)器超低溫制冷循環(huán)器

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低溫制冷循環(huán)水溫機

更新時間：2023-11-17

型號：

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低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設備：降溫毯。工業(yè)設備及激光設備：生物制藥。科學實驗設備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。
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QR-25W智能低溫恒溫槽

更新時間：2023-11-17

型號：QR-25W

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智能低溫恒溫槽產(chǎn)品說明：采用機械全封閉制冷降溫速度快，控溫精度準。壓縮機高低壓，壓縮機過熱，電流負載等多重保護確保安全可靠。
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-40℃～30℃低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備

更新時間：2023-11-17

型號：-40℃～30℃

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低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備，低溫制冷循環(huán)器采用全密閉設計，低溫運行過程無吸水，保證冷導熱介質(zhì)的純度，防止冰晶，提供導熱液壽命。高性能循環(huán)泵，可保證每天連續(xù)24小時運行。
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LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機

更新時間：2023-11-17

型號：LX-20A

瀏覽量：2773

制冷循環(huán)低溫冷凍機半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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LX-145低溫制冷循環(huán)器

更新時間：2023-11-17

型號：LX-145

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低溫制冷循環(huán)器使用范圍：對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時間：2024-01-18

型號：LX-0250

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低溫冷卻循環(huán)器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優(yōu)樂、谷輪等品牌壓縮機，性能穩(wěn)定，可持續(xù)工作，微電腦溫度控制器，溫度數(shù)字顯示，調(diào)節(jié)單位0.1度，溫度范圍5度~35度可調(diào)。
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制冷循環(huán)冷水機

更新時間：2023-11-17

型號：

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制冷循環(huán)冷水機使用范圍：對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：
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LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時間：2024-01-18

型號：LX-70

瀏覽量：2350

LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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